ASML
ASML
ASML
オランダ・創業 1984年
世間
10/10
相手
10/10
自己
10/10
卓越ライン（75）を 24 点上回る
世間
10/10
相手
10/10
自己
10/10
卓越ライン（75）を 24 点上回る
EUV露光装置で半導体先端プロセスを独占
12項目
60/60
3軸
30/30
加点
+9
NCG
99/100
加点の理由：[戦略MAX+影響] EUV露光装置で先端半導体を物理学的に独占、地政学の要
当時の状況
オランダのフィリップスとASMインターナショナルの合弁会社として設立。半導体製造装置（露光装置）に特化。1990年代から「EUV（極紫外線）」研究を開始し、20年以上の開発で2017年量産化に成功。3nm以下の先端プロセスはASMLのEUV装置なしには作れない。1台$2億超、年間生産40台のみ。米国・日本・ドイツの部品サプライヤーと「西側半導体同盟」を構成。
テレスの所感
ASMLは「半導体製造のラスボス」。EUV（極紫外線）露光装置で3nm以下を作れるのはASMLだけ。1990年代に研究開始、20年以上かけて物理学の限界を超えた。1台$2億超、年40台しか作れず、TSMC・Samsung・Intelが取り合う。光学はZeiss、光源はCymer、レーザーはトルンプと欧米日の精鋭で分業。米中対立で「西側の盟主」として地政学価値も増。世界で最も技術的MOATの強い1社。
存続の鍵
EUV露光装置で物理学の限界を超え、世界唯一の先端半導体製造装置サプライヤー
12項目スコア（60/60）
強みA ターゲット市場・B 課題の実在性・C ソリューション・D チーム・E トラクション・F 参入障壁・G 収益モデル・H 財務計画・I 資本効率・J 出口戦略・K タイミング・L 独自の洞察
半導体製造装置市場の最先端領域。AI需要爆発で永続成長
5nm以下の半導体を作る技術が世界中で1社しかない
EUV露光装置——20年以上の開発で物理学の限界を超えた装置
オランダ＋ドイツZeiss＋米国Cymer＋日本部品。多国籍精鋭
EUV装置はTSMC・Samsung・Intelに独占供給。受注残数年分
技術的MOAT世界最強——20年の研究蓄積を後発が追えない
1台$2億超×40台/年＋メンテ収益。粗利益率50%超
営業利益率30%超。世界で最も利益率の高い装置メーカー
Zeiss（光学）・Cymer（光源）・トルンプ（レーザー）と分業
アムステルダム＋NASDAQ上場。時価総額約6,000億ユーロ（2026年7月時点）
AI半導体需要爆発＋米中対立で「西側の盟主」として地政学価値増
「先端半導体は1社しか作れない」物理学的に正しい独占